电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(1) :24-29.

直流磁控溅射系统研究及其维护

Research and Maintenance of DC Magnetron Sputtering System

吴海 张文朋 王露寒 程壹涛
电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(1) :24-29.

直流磁控溅射系统研究及其维护

Research and Maintenance of DC Magnetron Sputtering System

吴海 1张文朋 1王露寒 1程壹涛1
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作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第十三研究所,河北 石家庄 050051
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摘要

通过介绍磁控溅射镀膜系统的原理,分析了磁控溅射系统在溅射镀膜的过程中遇到的沉积速率、沉积均匀性、常见故障等方面的问题,对沉积速率和沉积均匀性的影响因素进行了具体地研究;同时描述了设备在使用过程中经常遇到的一些故障,对这些故障发生的原因进行了详细地分析,根据原因分析给出了故障的具体解决方法;最后,对磁控溅射系统在日常使用过程中的保养和维护方面提出了一些建议.注重日常的保养和维护可大大降低设备的故障率.

Abstract

By introducing the principle of magnetron sputtering coating system,analyzes the problems of deposition rate and deposition uniformity in magnetron sputtering system,analyzes the influencing factors of deposition rate and deposition uniformity,and describes some fault phenomena often encountered in the process of equipment use,the causes of these faults are analyzed in detail.Finally,some suggestions on repairs and maintenance of magnetron sputtering system in daily use are put forward.Paying attention to daily maintenance and that can greatly reduce the failure rate of equipment.

关键词

磁控溅射//沉积速率/沉积均匀性/设备维护

Key words

Magnetron sputter/Target/Deposition rate/Deposition uniformity/Maintenance of equipment

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出版年

2024
电子工业专用设备
中国电子科技集团公司第四十五研究所

电子工业专用设备

影响因子:0.157
ISSN:1004-4507
参考文献量4
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