电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(1) :38-42.

国产碳化硅离子注入机的设计开发

Design and Development of Domestic SiC Ion Implanter

袁卫华 李进 罗才旺 许波涛
电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(1) :38-42.

国产碳化硅离子注入机的设计开发

Design and Development of Domestic SiC Ion Implanter

袁卫华 1李进 1罗才旺 1许波涛1
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作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第四十八研究所,湖南 长沙 410111
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摘要

为进一步增加SiC离子注入技术的自主可控能力和降低SiC器件的成本,SiC离子注入机的国产替代迫在眉睫.主要介绍国产SiC离子注入机的研制过程和其中的三大关键技术,目前国产SiC离子注入机核心技术攻关已取得突破并得到产线应用,器件良品率、性能等指标与国外进口机台的水平相当,能够满足SiC器件的生产要求.

Abstract

In order to further increase the autonomous control capability of SiC ion implanting technology and reduce the cost of SiC devices,the domestic replacement of SiC ion implanter is imminent.This paper mainly introduces the development process and the key technologies of domestic SiC ion implanter.At present,the core technology of domestic SiC ion implanter has made a breakthrough and been applied in the production line.The device yield,performance and other indicators are equivalent to the level of foreign imported machines,could meet the requirements of SiC device production.

关键词

碳化硅/高能离子注入机/金属离子源/高温注入

Key words

SiC/High energy ion implanter/Metal ion source/Ion implantation at high temperature

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出版年

2024
电子工业专用设备
中国电子科技集团公司第四十五研究所

电子工业专用设备

影响因子:0.157
ISSN:1004-4507
参考文献量4
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