电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(2) :20-26.

10kV与20kV系统在半导体项目上的设计要点分析

10 kV and 20 kV Technology Analysis of Semiconductor Field

李伟杰
电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(2) :20-26.

10kV与20kV系统在半导体项目上的设计要点分析

10 kV and 20 kV Technology Analysis of Semiconductor Field

李伟杰1
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作者信息

  • 1. 中国电子系统工程第二建设有限公司,上海 214000
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摘要

半导体作为国家目前发展的重点,新建了很多 200 mm(8 英寸)和 300 mm(12 英寸)的半导体项目,而半导体项目自身又具有高用电需求的特点,所以针对 10 kV和 20 kV不同电压等级对技术要点进行分析和研究是十分必要.分别对 10 kV和 20 kV的电力系统方案进行分析,并对短路电流计算进行理论试算,归纳所对应的设备选型所对应参数,并结合实际案例分析比较所对应的站房需求和结构柱网型式,最终得出两种电压等级下所对应的设计要点,为其他设计人员在后续设计中提供借鉴.

Abstract

Semiconductor field regard as China key industry,currently 200 mm(8-inch)and 300 mm(12-inch)wafer production line have been established with characteristic of high power demand,therefore it is necessary to study with 10 kV and 20 kV technology.The article analyzes the power system of 10 kV and 20 kV respectively combined with short-circuit current calculation,summarizes the parameter selection and compares the corresponding space needs and structural column grid types with actual case analysis.Finally get the conclusion corresponding to two voltage.

关键词

电压等级/半导体/短路电流/设计要点

Key words

Voltage-grade/Semiconductor/Short-circuit current calculation/Design points conclusion

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出版年

2024
电子工业专用设备
中国电子科技集团公司第四十五研究所

电子工业专用设备

影响因子:0.157
ISSN:1004-4507
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