首页|基于接近接触式曝光机的暗场对准技术

基于接近接触式曝光机的暗场对准技术

扫码查看
为了解决接近接触式曝光机实际生产过程中标记范围较小的问题,设计一种气缸控制结构.配合显微镜的升降和显微镜的光路,形成一套适用于接近接触式曝光机的暗场对准的软硬件技术,实现了暗场掩膜对准的成本降低,提升了接近接触式曝光机的对准效率和稳定性提升.
Dark Field Alignment Technology Based on Mask-Aligner
In order to solve the problem of Mask-Aligner markers in the process of actual production,design a cylinder control structure.With the microscope lifting and microscope light path,form a set of suitable for Mask-Aligner of Dark Field Alignment Technology with hardware and software technology,realize the dark field mask alignment cost reduction,improve the efficiency of close contact exposure machine alignment and stability.

Mask-AlignerDark field alignmentError compensation

王振宇、周卓跃、李康平

展开 >

中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京 100176

曝光机 暗场对准 误差补偿

2024

电子工业专用设备
中国电子科技集团公司第四十五研究所

电子工业专用设备

影响因子:0.157
ISSN:1004-4507
年,卷(期):2024.53(5)