电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(5) :47-51.

基于接近接触式曝光机的暗场对准技术

Dark Field Alignment Technology Based on Mask-Aligner

王振宇 周卓跃 李康平
电子工业专用设备2024,Vol.53Issue(5) :47-51.

基于接近接触式曝光机的暗场对准技术

Dark Field Alignment Technology Based on Mask-Aligner

王振宇 1周卓跃 1李康平1
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作者信息

  • 1. 中国电子科技集团公司第四十五研究所,北京 100176
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摘要

为了解决接近接触式曝光机实际生产过程中标记范围较小的问题,设计一种气缸控制结构.配合显微镜的升降和显微镜的光路,形成一套适用于接近接触式曝光机的暗场对准的软硬件技术,实现了暗场掩膜对准的成本降低,提升了接近接触式曝光机的对准效率和稳定性提升.

Abstract

In order to solve the problem of Mask-Aligner markers in the process of actual production,design a cylinder control structure.With the microscope lifting and microscope light path,form a set of suitable for Mask-Aligner of Dark Field Alignment Technology with hardware and software technology,realize the dark field mask alignment cost reduction,improve the efficiency of close contact exposure machine alignment and stability.

关键词

曝光机/暗场对准/误差补偿

Key words

Mask-Aligner/Dark field alignment/Error compensation

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出版年

2024
电子工业专用设备
中国电子科技集团公司第四十五研究所

电子工业专用设备

影响因子:0.157
ISSN:1004-4507
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