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对羟基二联苯诱导的表面金属-有机键断裂

Break of Metal-organic Chains Induced by 4,4'-Dihydroxybiphenyl on Surfaces

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金属-有机杂化结构是表面在位反应过程中常见的中间体.金属-有机杂化结构中金属-有机键的断裂需要克服较高的活化能垒,往往会引起一系列竞争副反应以及分子的脱附.本文利用扫描隧道显微镜研究了4,4'-二羟基联苯分子在金属表面与预先制备的金属-有机链的作用,发现其氧端能有效地降低金属有机杂化体系断键的能垒,使得金属-有机键的断键反应能在较低的温度下进行.该结果提供了一种调控表面反应中间物的新手段.

徐智超、李雪超、唐雁宁、张海明、迟力峰

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苏州大学功能纳米与软物质研究院,江苏省碳基功能材料与器件高技术研究重点实验室,苏州215123

扫描隧道显微镜 表面在位反应 金属-有机杂化结构

国家重点研发计划项目国家自然科学基金国家自然科学基金国家自然科学基金

2017YFA0205002216731542179005351821002

2021

10.7503/cjcu20200661

高等学校化学学报
中华人民共和国教育部委托 吉林大学和南开大学

高等学校化学学报

CSTPCDCSCD北大核心SCI
影响因子：1.067
ISSN：0251-0790
年,卷(期)：2021.42(4)
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