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氧氩流量比对氧化铋纳米薄膜微结构及光电性能的影响研究

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为了制备出不同光电性能的氧化铋薄膜,并明晰其性能机理,以便后续研究与氧化锌薄膜复合成压敏薄膜.采用磁控溅射法,改变溅射气氛中氧气和氩气的流量比,在玻璃衬底上制备出了三个氧化铋薄膜样品,并对其微观形貌、结构及光电性能进行了测试分析.结果表明:溅射气氛中的氧氩流量比对薄膜微结构及光电性能影响显著;不同氧氩流量比制备的Bi2 O3薄膜中均含BiO2和Bi杂相,且随着氧氩流量比由0:40增大至4:36,薄膜中Bi含量减少,BiO2增加;薄膜颜色由黑变黄;沉积速率由14 nm/min减少至12 nm/min;晶粒尺寸增大,表面趋向致密均匀,可见光区透过率由0.25％增加到56.73％;禁带宽度由0增加到3.17 eV;载流子浓度、导电性能急剧降低,调节溅射气氛中氧氩流量比可有效控制氧化铋薄膜的禁带宽度,载流子浓度等,从而获得不同光电性能的薄膜样品.
Influence of the flow ratio of oxygen to argon on Microstructure and Photoelectric properties of bismuth oxide nano-films

陈真英、周际越、邓文、彭富平

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北部湾大学 理学院,广西 钦州 535011

广西大学 物理科学与工程技术学院,广西 南宁 530004

氧化铋薄膜 磁控溅射 氧氩流量比 微结构 光电性能

国家自然科学基金北部湾大学高层次人才科研启动基金

5186203118KYQD50

2021

10.13624/j.cnki.issn.1001-7445.2021.1620

广西大学学报(自然科学版)
广西大学

广西大学学报(自然科学版)

CSTPCD北大核心
影响因子：0.767
ISSN：1001-7445
年,卷(期)：2021.46(6)
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