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双反射飞行时间质量分析器高分辨光电子成像谱仪研制.

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本文报道了一台结合电喷雾离子源和双反射飞行时间质谱的速度成像光电子能谱仪的研制过程,其可用于开展溶液中负离子的光电子能谱研究.在该装置中,电喷雾离子源产生的负离子由四极杆组成的离子引导系统传输至冷离子阱,并对负离子进行富集和冷却,用于后端的质量选择和光电子能谱探测.该装置的关键技术之一是将双反射质量分析器与Wiley-McLaren离子加速聚焦设计进行了串联.这样可以有效地提高质谱分辨,从而准确地选择目标离子,其质量分辨率(M/△M)可达2000以上.该装置的高分辨光电子速度成像系统采用多极电子透镜设计,对于动能为0.59 eV的光电子,其能谱峰的半高宽约为5.8 meV,相对分辨率为～0.98％.本文对该装置的工作原理,结构设计和性能测试情况进行了详细阐述.
Development of High-Resolution Photoelectron Imaging with Dual-Reflec-tion Time of Flight Mass Analyzer
A velocity map imaging pho-toelectron spectroscopy,cou-pled with an electrospray ion-ization source and a dual-re-flection time of flight(TOF)mass analyzer has been devel-oped for the investigation of anions in the gas phase.An-ions formed in the electrospray source are guided by a radio-frequency quadrupole ion guide into a quadrupole ion trap,where the ions are accumulated.A unique feature of this appara-tus involves the coupling of a dual-reflection mass analyzer to the original Wiley-McLaren de-sign.This can effectively improve the mass spectrum resolution,so as to accurately select the target ion.The mass resolution(M/AM)above 2000 can be achieved.The velocity map imag-ing spectrometer resolution is about 5.8 meV full width at half maximum for the photoelec-trons with the kinetic energy of 0.59 eV,leading to a relative resolution of～0.98％.The de-tailed design,construction,and operation of the new apparatus are presented.

High-resolution photoelectron imagingDual-reflection time of flightPhotoelec-tron spectroscopy

费泽杰、韩昌财、王永天、徐辉、洪静、江一煌、周源、居鹤晨、董常武、刘洪涛

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中国科学院上海应用物理研究所,微观界面物理与探测重点实验室,上海 201800

同济大学化学系,上海市化学品分析评估与控制重点实验室,上海 200092

中国科学院大学,北京 100049

上海理工大学材料与化学学院,上海 200090

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高分辨光电子成像 双反射飞行时间质谱 光电子能谱

Scientific Instrument Developing Project of the Chinese Academy of SciencesYouth Innovation Promotion Association,Chinese Academy of ScienceShandong Energy Research Institute Enterprise Joint Fund中国科学院战略规划重点项目国家自然科学基金

YJKYYQ201900272021255SEI U202312XDA0202000022273065

2024

10.1063/1674-0068/cjcp2312140

化学物理学报(英文版)
中国物理学会

化学物理学报(英文版)

CSTPCDEI
影响因子：0.162
ISSN：1674-0068
年,卷(期)：2024.37(2)
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