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氧化物光学薄膜的压入硬度研究

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为了评价离子源辅助对不同氧化物薄膜的影响,采用不同的镀膜设备沉积了TiO2、Ta2O5、ZrO2、SiO2 氧化物单层膜,用椭偏仪测量了其折射率和厚度,并用纳米压痕仪测量了不同载荷下材料的杨氏模量和纳米硬度,比较了不同离子源沉积条件下膜层这两个参数的变化.结果表明,离子源辅助能有效增加膜层杨氏模量和压入硬度,TiO2 增加了2 GPa,Ta2O5 增加了 4 GPa,ZrO2 增加了 2 GPa,和膜层的折射率变化趋势是一致的.纳米压痕法也可作为评价离子源轰击能力的一种手段.
Indent hardness of optical oxide films
To evaluate the effect of ion source assistance on different oxide films,TiO2,Ta2O5,ZrO2 and SiO2 were deposited with different radio frequency(RF)sources.The index and thickness were measured by a spectroscopic ellipsometer.The Young's module and the hardness of these films were compared.Experiments show that the value of Young's module and hardness are increased,2 GPa for TiO2,4 GPa for Ta2O5,2 GPa for ZrO2,in accordance with the film index.The nano-indention method is effective in evaluating the ability of ion sources.

thin filmsnanoindentationindentation hardnessoxide

马孜、李斌、童静、姚德武、沈刚

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西南技术物理研究所,成都 610041,中国

薄膜 纳米压痕 压入硬度 氧化物

2024

激光技术
西南技术物理研究所

激光技术

CSTPCD北大核心
影响因子:0.786
ISSN:1001-3806
年,卷(期):2024.48(3)
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