国家学术搜索
登录
注册
中文
EN
首页
|
氮化硅陶瓷的烧结工艺及其半导体应用进展
氮化硅陶瓷的烧结工艺及其半导体应用进展
引用
认领
扫码查看
点击上方二维码区域，可以放大扫码查看
原文链接
NETL
NSTL
万方数据
中文摘要：
氮化硅陶瓷是一种具有特殊的结构以及很好的热学性能与力学性能的陶瓷材料。本文综述了氮化硅陶瓷的主要烧结方法，并总结展望了氮化硅陶瓷的未来发展前景。
收起全部
展开查看外文信息
作者：
王天倚、王红宇、何亮、王浩
展开 >
作者单位：
吉林建筑大学,吉林长春 130118
关键词：
氮化硅陶瓷
烧结方法
氮化硅基板
出版年：
2024
吉林广播电视大学学报
吉林广播电视大学
吉林广播电视大学学报
影响因子：
0.272
ISSN：
1008-7508
年,卷(期)：
2024.
(2)
NETL
NSTL
万方数据
