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N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性研究进展

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N—Cl型卤胺抗菌剂具有高效、快速、稳定、安全、可再生的抗菌性能,由其开发的抗菌材料广泛应用于医疗卫生、纺织、水过滤等领域.然而,N—Cl型卤胺抗菌材料在应用过程中受紫外光作用会使材料上的N—Cl键或抗菌剂与材料基质的连接共价键断裂,导致活性氯的含量降低,进而引起其抗菌性能的下降.如何提高N—Cl型卤胺抗菌材料的紫外稳定性受到了国内外学者的重点关注.该文首先阐述了N—Cl型卤胺抗菌剂的种类和造成N—Cl型卤胺抗菌材料中活性氯含量降低的因素;然后,综述了通过改变卤胺前驱体结构,引入纳米TiO2、ZnO、AgCl无机粒子和有机紫外吸收剂来提高N—Cl型卤胺抗菌材料紫外稳定性的研究进展;最后,讨论了该研究领域所面临的问题和挑战,并对未来发展进行了展望.
Research progress on UV stability of N—Cl haloamine antibacterial materials

万建升、李红、张世豪、闫俊

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大连工业大学 纺织与材料工程学院,辽宁 大连 116034

N—Cl型卤胺抗菌剂 功能材料 紫外稳定性 氯含量 应用

辽宁省高等学校产业技术研究院教育服务"五大战略"项目

2018LY027

2022

10.13550/j.jxhg.20211095

精细化工
大连化工研究院设计院 中国化工学会精细化工专业委员会 辽宁省化工研究院

精细化工

CSTPCDCSCD北大核心
影响因子：0.557
ISSN：1003-5214
年,卷(期)：2022.39(7)
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