掩膜电化学沉积缺陷去除数值分析及实验研究

Numerical Analysis and Experimental Research on Defects Remove in Mask Electrochemical Deposition

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中文摘要：对掩膜电化学沉积中缺陷的去除进行数值分析及实验研究.阐述掩膜电化学沉积的缺陷形成原因以及缺陷去除原理;对缺陷去除过程进行电场分析以及数学计算,得到了"马鞍"正弦轮廓振幅随着电流和电流通过时间沉积的关系式,计算得到微柱顶端高度差降为3 μm的电解加工时间为9.48 s.开展对比实验,实验结果表明:在电解平整加工后微柱阵列高度差从13 μm 降低到 4.2 μm.

外文关键词：

numerical analysismask electrochemical depositiondefect removalmicrocolumn

作者：

吴传冬、张彦、蔡康捷、赵涵涛、方成刚

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作者单位：

南京工业大学机械与动力工程学院,江苏南京 211899

关键词：

数值分析掩膜电化学沉积缺陷去除微柱

出版年：

2023

DOI：

10.19344/j.cnki.issn1671-5276.2023.05.025

机械制造与自动化

南京机械工程学会南京机电产业（集团）有限公司

机械制造与自动化

CSTPCD

影响因子：0.29

ISSN：1671-5276

年,卷(期)：2023.52(5)

参考文献量1