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石墨烯薄膜技术发展综述——基于DII数据库的分析

Review of Graphene Thin Film Technology——The Analysis Based on DⅡ Database

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通过对石墨烯薄膜技术专利数量的时间序列统计,形成技术发展趋势图,分析石墨烯薄膜技术的发展波动规律.研究表明,石墨烯薄膜技术总体态势呈现上升式循环发展,专利数量逐年增长;波动特征主要表现为大涨大落,波长较短,波幅逐步扩大.发展波动受政府专项计划、技术突破点、研究主体数量变化和技术应用领域拓展等因素影响.构建石墨烯薄膜技术发展波动周期预测模型,使用现有的专利数据,对石墨烯薄膜技术未来10年的发展趋势进行合理预测,为制定石墨烯薄膜技术战略和产业政策提供参考.

梁燕、钟书华

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华中科技大学 公共管理学院,湖北 武汉 430074

石墨烯薄膜 专利分析 发展波动

中央高校基本科研业务费专项

2020WKZDJC001

2021

10.3969/j.issn.1672-2272.202011017

科技创业月刊
湖北省科技信息研究院

科技创业月刊

影响因子：0.254
ISSN：1672-2272
年,卷(期)：2021.34(3)
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