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埃贡·席勒自画像风格成因分析
埃贡·席勒自画像风格成因分析
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中文摘要：
奥地利著名表现主义画家埃贡·席勒的自画像以夸张扭曲的造型展现出强烈的自我探索和精神追寻.文章以埃贡·席勒为研究对象,探讨其自画像风格特点及成因,并通过拉康的精神分析理论对席勒自画像体现出的自我认知进行深入分析,探讨作品的精神成因和内涵,以期对席勒自画像的创作动机形成更深层次的认识.
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作者：
姚怡然
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作者单位：
首都师范大学美术学院 北京 100048
关键词：
埃贡·席勒
自画像
表现主义
出版年：
2024
美术文献
美术文献
ISSN：
年,卷(期)：
2024.
215
(9)
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