中国科教创新导刊2013，Issue(29) ：136,138.

磁控溅射镀膜技术的发展及应用

马景灵 任风章 孙浩亮
中国科教创新导刊2013，Issue(29) ：136,138.
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磁控溅射镀膜技术的发展及应用

马景灵 1任风章 1孙浩亮1
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作者信息

  • 1. 河南科技大学材料科学与工程学院 河南洛阳 471023
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摘要

近年来,随着新材料的开发,尤其是薄膜材料的发展和应用,带动磁控溅射沉积技术的飞速发展,在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用.本文主要介绍了磁控溅射沉积技术的工艺过程及其发展情况,各种主要磁控溅射镀膜技术的特点,并介绍磁控溅射技术在各个领域的主要应用.

关键词

磁控溅射/镀膜/辉光放电

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基金项目

河南科技大学实验技术开发基金(SY1112008)

科研创新能力培育基金(2012ZCX017)

出版年

2013
中国科教创新导刊
中国科学技术信息研究所（ISTIC） 科学技术文献出版社

中国科教创新导刊

影响因子：0.146
ISSN：1673-9795
被引量9
参考文献量6
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