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根区施用硝化抑制剂DMPP对不同栽培方式下黄瓜产量及根区温室气体排放的影响

Influences of DMPP on the Cucumber Yield and Root Zone Greenhouse Gas Emission under Different Cultivation Methods

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为了研究根区施用硝化抑制剂(DMPP)对日光温室起垄内嵌式基质栽培与土垄栽培黄瓜产量及根区N2O和CO2排放的影响,设置5个处理:CK(土垄栽培,不施氮肥)、SC(土垄栽培,常规施氮肥)、SC+D(土垄栽培、常规施氮肥配施DMPP)、SSC(起垄内嵌式基质栽培、常规施氮肥)、SSC+D(起垄内嵌式基质栽培、常规施氮肥配施DMPP),分析了DMPP对黄瓜根区N2O和CO2排放的影响机制和对黄瓜产量的综合影响.结果 表明:施氮肥显著增加了设施蔬菜地N2O累计排放量和黄瓜总产量.与SC处理相比,SSC处理的N2O累积排放量、CO2累积排放量和全球增温潜势分别减少27.9%、30.2%、30.1% (P<0.05).SC+D处理显著降低全球增温潜势27.5% (P<0.05);相比SSC处理,SSC+D处理显著降低全球增温潜势29.8%(P< 0.05).与CK相比,SC、SC+D、SSC和SSC+D处理的黄瓜总产量分别显著提高123.7%、138.0%、130.0%和138.7%.与SC处理相比,SSC处理显著提高了黄瓜产量和地上部、根系的干物质量,分别为5.1%、8.4%、66.1%.综合考虑N2O和CO2累积排放量、全球增温潜势、黄瓜产量,推荐施用DMPP条件下起垄内嵌式基质栽培为较优的管理模式.

李宝石、刘文科、王奇、查凌雁、张玉彬、周成波、邵明杰

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中国农业科学院农业环境与可持续发展研究所,农业农村部设施农业节能与废弃物处理重点实验室,北京100081

日光温室 硝化抑制剂 黄瓜 氮肥 根区气体 起垄内嵌式基质栽培

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2021

中国农业科技导报
中国农村技术开发中心

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CSTPCDCSCD北大核心
影响因子:1.252
ISSN:1008-0864
年,卷(期):2021.23(9)
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