摘要
为了研究根区施用硝化抑制剂(DMPP)对日光温室起垄内嵌式基质栽培与土垄栽培黄瓜产量及根区N2O和CO2排放的影响,设置5个处理:CK(土垄栽培,不施氮肥)、SC(土垄栽培,常规施氮肥)、SC+D(土垄栽培、常规施氮肥配施DMPP)、SSC(起垄内嵌式基质栽培、常规施氮肥)、SSC+D(起垄内嵌式基质栽培、常规施氮肥配施DMPP),分析了DMPP对黄瓜根区N2O和CO2排放的影响机制和对黄瓜产量的综合影响.结果 表明:施氮肥显著增加了设施蔬菜地N2O累计排放量和黄瓜总产量.与SC处理相比,SSC处理的N2O累积排放量、CO2累积排放量和全球增温潜势分别减少27.9％、30.2％、30.1％ (P＜0.05).SC+D处理显著降低全球增温潜势27.5％ (P＜0.05);相比SSC处理,SSC+D处理显著降低全球增温潜势29.8％(P＜ 0.05).与CK相比,SC、SC+D、SSC和SSC+D处理的黄瓜总产量分别显著提高123.7％、138.0％、130.0％和138.7％.与SC处理相比,SSC处理显著提高了黄瓜产量和地上部、根系的干物质量,分别为5.1％、8.4％、66.1％.综合考虑N2O和CO2累积排放量、全球增温潜势、黄瓜产量,推荐施用DMPP条件下起垄内嵌式基质栽培为较优的管理模式.
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