Si基板上に直接成長した極薄InSb膜をチャネルとしたAl_2O

Si基板上に直接成長した極薄InSb膜をチャネルとしたAl_2O_3/InSb MOSFET

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外文标题：Si基板上に直接成長した極薄InSb膜をチャネルとしたAl_2O_3/InSb MOSFET

外文关键词：

MOSFETInSbAl_2O_3分子線エピタキシー格子不整合

作者：

前澤宏一、伊藤泰平、角田　梓、中山幸二、安井雄一郎、森雅之、宮崎英志、水谷孝

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作者单位：

富山大学大学院理工学研究部　〒930-8555　富山巿五福　3190

富山大学大学院理工学研究部〒930-8555　富山巿五福3190

名古屋大学大学院工学研究科　〒464-8601　名古屋市不老町

出版年：

2013

電子情報通信学会技術研究報告

ISSN：0913-5685

年,卷(期)：2013.112(445)