查看更多>>摘要:噪声等效温差(Noise Equivalent Temperature Difference,NETD)是评价红外探测器灵敏度的关键指标.通过改变读出电路结构,提高读出电路的电荷处理能力,使探测器的NETD值从10 mK量级提升至1mK以下.当噪声小于1个灰度时,采用现有测试方法得到的NETD值较低,导致整机应用时识别距离评估过高,与实际结果不符.本文提出的优化方法使测试结果与系统应用指标更符合.经分析认为,所用探测器更适用于低速目标或者相对静止场景;与常规探测器相比,该探测器的识别距离受相同光学温度变化的影响更大.建议用户关注光学温度稳定性的影响.
查看更多>>摘要:采用CdTe/ZnS双层钝化工艺对长波HgCdTe衬底进行表面钝化及工艺优化,并利用不同的工艺条件进行背面增透膜生长.通过对各工艺条件下制备的二极管器件膜层进行扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM)、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、I-V表征分析,研究了不同工艺条件下沉积CdTe/ZnS膜层的致密度对器件性能的影响.结果表明,致密度更高的CdTe/ZnS钝化膜层均匀,具有更好的表面状态;致密度更高的背面增透膜层附着力更强,表面缺陷更少,制备出的LW640-15探测器具有更高的性能.
查看更多>>摘要:采用磁控溅射技术在硅衬底上制备ZnS薄膜,探究了溅射功率对ZnS薄膜沉积速率、表面粗糙度和表面形貌的影响.采用台阶仪、原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Micro-scope,SEM)、椭偏仪等表征薄膜的表面形貌、微观结构和光学性能.结果表明,ZnS薄膜的沉积速率与溅射功率有关,随溅射功率的增加而线性增加;表面粗糙度与溅射功率相关,随溅射功率的增大呈现先增大后减小的趋势.在微观结构方面,薄膜晶粒尺寸也呈现先变大后减小的趋势.随着溅射功率的增大,ZnS膜层的折射率先减小后增大.因此,溅射功率对膜层生长具有重要的作用.