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期刊信息/Journal information
中国陶瓷工业
中国陶瓷工业

周健儿

双月刊

1006-2874

tcxb_779@163.com

0798-8499628 8491219

333001

景德镇东郊新厂景德镇陶瓷学院

中国陶瓷工业/Journal China Ceramic Industry北大核心
查看更多>>本刊属专业技术刊物。主要报道我国陶瓷工业发展状况，以及国内外陶瓷工业技术领域的最新科研成果，开展陶瓷艺术的研究和经验交流。主要栏目有发展战略、专题评述、科研与生产、高技术陶瓷、技术开发、陶瓷艺术、古瓷研究、技术引进与改造、企业管理、信息总汇等。读者对象为陶瓷工业的科研设计人员、生产技术人员和专业院校师生。
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    基于Mg2+电荷补偿的红色荧光粉Sr2Ga2GeO7∶0.02Sm3+的可控光学调谐

    黄志黄中胜仇红萍曾婷...
    1-7页
    查看更多>>摘要：为进一步改善红光荧光粉Sr2Ga2GeO7∶0.02Sm3+(SGGOS)的光谱性能和白光应用特性,以Mg2+为电荷补偿离子对样品进行光学调谐,并通过高温固相法合成了一系列红光荧光粉Sr2Ga2GeO7∶0.02Sm3+,xMg2+(0≤x≤0.12).研究结果表明,Mg2+可以成功引入样品SGGOS中并取代Ga3+,样品的晶粒尺寸约为1～10μm.荧光测试结果表明,Mg2+可以增强激活离子Sm3+的电荷传输效率,进而显著提升样品的荧光发射(PL)强度.此外,当Mg2+的掺杂量为0.08时,样品Sr2Ga2GeO7∶0.02Sm3+,0.08Mg2+(SGGOSM)的荧光发射强度最大.与参比样品SGGOS相比,荧光粉SGGOSM的光学带隙(Eg)变大、色纯度提升、热稳定性增强,进而有效改善其在白光器件中的电致发光性能.基于SGGOSM为红光组分的白光器件(WLED)的显色指数(Ra)高达90.5,色温(CCT)低至3563 K,与实验预期吻合,实现了 Sm3+掺杂红光荧光粉Sr2Ga2GeO7:0.02Sm3+的有效光谱调控,为高Ra、低CCT类白光器件的研究提供了一定的实验和理论依据.

    电荷补偿光学调谐Sr2Ga2GeO7∶0.02Sm3+WLED

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    配方组成对抗菌无光白釉釉面性能的影响

    吴世杰赵磊席敏艺刘方波...
    8-13页
    查看更多>>摘要：以石英、烧滑石、高岭土、钾长石、氧化锌、碳酸钡、硅灰石、硅酸锆和抗菌粉为原料,经1230 ℃保温30min制备抗菌无光白釉,并通过XRD、XRF、SEM等表征手段研究了石英、烧滑石、高岭土和硅酸锆的添加量对釉面白度、光泽度和抗菌性能的影响.结果表明:当石英、烧滑石、高岭土和硅酸锆的添加量分别为25 wt.％、22 wt.％、10 wt.％和18wt.％时,样品综合性能最佳,此时釉面的白度为86.4％、光泽度为8.9 GU,对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌的抗菌率分别为97.06％和96.77％,具备良好的抗菌效果.釉层的晶相组成为锆英石和透辉石.

    抗菌无光白釉白度光泽度锆英石透辉石

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    高纯超细氧化铝陶瓷粉体的湿法研磨及烧结性能研究

    武鼎铭申俊雷瑞洁
    14-19页
    查看更多>>摘要：高纯超细、高烧结活性的氧化铝陶瓷粉体制造技术是我国先进陶瓷产业发展的主要瓶颈.为了研究上述高纯低温易烧结氧化铝陶瓷粉体,采用湿法研磨的方法,制备粒径小、分布窄的高纯氧化铝陶瓷粉体,利用激光粒度分析仪、扫描电子显微镜和万能材料试验机等手段进行表征,以探讨湿法研磨分散工艺条件和粉体烧结性能.结果表明,在基础比例下,研磨后的粉体粒径小且分布窄,中位粒径D50为0.435 pm,D90/D10为5.2.该高纯超细粉体在1550 ℃下,烧成密度为3.925 g·cm-3,三点弯曲强度为471 MPa,烧结后的力学性能最佳.

    高纯超细氧化铝湿法研磨烧结性能微观形貌力学性能

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    聚丙烯酸钠的制备及性能研究

    陈拥强廖军张悠悠仝元东...
    20-23页
    查看更多>>摘要：通过操作简便、应用广泛的水溶液聚合法,制备了粘均分子量约为1500～3000聚丙烯酸钠.研究表明,聚丙烯酸钠的相对分子量随着引发剂用量以及链转移剂用量的增加而减小.相应聚丙烯酸钠(分子量为2000)的减水率达到22.8％,高于市场常用萘系减水剂,表现出优异的应用潜力.

    聚丙烯酸钠水溶液聚合法粘均分子量减水率

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    蜂窝状蓝黑发泡艺术釉的研制

    郑成宾吴兰香李家科
    24-27页
    查看更多>>摘要：以钠长石、钾长石、烧滑石、高岭土、石英、石灰石和碳酸钡为主要原料,以氧化铁、氧化铬、氧化钴和氧化镍为着色剂,以硅氧碳(SiOC)为发泡剂兼着色剂,在烧成温度1310 ℃、保温时间30 min下制备蜂窝状蓝黑发泡艺术釉.主要研究了 SiOC、CoO和Fe2O3添加量对釉面颜色和发泡效果的影响规律.采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对釉层物相组成和微观结构进行表征.结果表明:当基础釉中外加SiOC 0.45％～0.75％、CoO 6.5％～8.5％、Fe2O31.7％～2.7％、Cr2O3 2.2％和NiO 0.4％时,可以获得釉面呈蜂窝状蓝黑色艺术釉.

    发泡釉发泡剂着色剂艺术釉

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    基于相图理论分析釉的组成与性状的关系

    刘干平李刘旒
    28-32页
    查看更多>>摘要：以CaO-Al2O3-SiO2三元相图为基础,在SiO2、CaO·SiO2、CaO·Al2O3·2SiO2三角形区域中的四个析晶区对应配制四种釉料:透明釉、结晶釉、乳浊釉和无光釉.通过四种釉料烧成制品的外观观察和性状分析,对相图四个析晶区域展开分析和讨论,从而揭示了各种釉料的化学组成与性状的关系,以及釉料之间的变化规律.

    三元相图析晶区化学组成釉的性状

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    基于改进DQN算法的陶瓷梭式窑温度智能控制

    朱永红余英剑李蔓华
    33-38页
    查看更多>>摘要：针对陶瓷梭式窑大延迟、非线性、慢时变及强耦合等特点,提出了基于改进DQN算法的陶瓷梭式窑温度智能控制方法.首先,建立了基于BP神经网络的陶瓷梭式窑模型.然后,提出了基于改进DQN算法的智能控制方法.最后,对所提出的方法进行了仿真研究.仿真结果表明,改进的PRDQN算法的温度控制相对误差为0 ℃～5 ℃,温度控制效果相对较好.因此,所提出的方法是有效且可行的.

    陶瓷梭式窑深度强化学习BP神经网络PRDQN算法

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    双重转型——民国瓷器装饰工艺的继承与革新

    陈航宇
    39-46页
    查看更多>>摘要：民国时期,瓷器装饰工艺发生了从传统工艺美术向艺术化和现代化的双重转型.除了对传统手工艺进行全面继承之外,一方面手工瓷绘在保持传统工艺如青花和粉彩的同时,引入了文人风格、西方技法与新色料,产生了如浅绛彩、新粉彩和新彩等装饰工艺,向着艺术化的方向转变;另一方面采用了机械印刷、转印和喷涂等现代化技术,产生了喷花、贴花等现代工艺,使瓷器装饰更加多元化和工业化,向着现代化的方向转型.这些艺术与技术的变革为新中国成立后瓷器装饰工艺的发展奠定了基础,成为中国瓷器历史上的重要篇章.

    民国瓷器装饰工艺艺术化现代化技术变革

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    古希腊黑绘式陶器装饰工艺探析

    张志忠陈坤
    47-52页
    查看更多>>摘要：古希腊黑绘式陶器的纹饰精美,色彩表现力强,得益于其独特的装饰工艺,但其装饰工艺却鲜为人知.文章以古希腊黑绘式陶器为研究对象,采用图像学方法、逻辑推理法以及比较研究法探析其具体装饰工艺.得出相应结论:直接绘画和开窗式绘画两种装饰方式均是采用含有氧化铁颗粒的黏土作为装饰颜料涂层,烧制后形成黑色光泽表层,黑色纹饰再与陶胎的砖红色形成色彩对比,凸显纹饰.黑绘式陶器的纹饰设计体现了设计的适应性原则,给现代陶瓷艺术创作带来启示.陶瓷艺术创作应以材料和工艺的确定性来探寻更多艺术表现的可能性.

    古希腊黑绘式陶器装饰工艺图像学方法

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    基于文献计量分析的1949-2023年中国耀州瓷研究

    袁兴任肇刘宗明
    53-60页
    查看更多>>摘要：为了直观展示中国耀州瓷的研究进度,了解中国耀州瓷的研究现状、学术热点及前沿动态,文章运用VOSviewer科学计量软件分析中国知网(CNKI)、Web of Science Core Collection数据库中1949-2023年发表的中国耀州瓷相关研究文献,采用"文献导入→词频共现→可视化分析→结果解读"的技术路线,对中国耀州瓷的年度出版情况、来源期刊、研究机构、高被引作者、高频关键词以及热点、前沿等方面进行统计分析.研究结果表明:(1)自1953年以来,中国耀州瓷研究领域的发文量不断增长,尤其是在分界点2004年之后的发文量呈倍数稳步逐年递增趋势;(2)主要涉及学科早期阶段以历史学、考古学、材料学、化学等为主,后期阶段有图像学、非遗学、文学、艺术学、设计学等加入,研究往多元化发展;(3)影响力较大的发文期刊有《文博》《中国陶瓷》《CERAMICS INTERNATIONAL》《JOURNAL OF THE EUROPEAN CERAMIC SOCIETY》等;(4)主要发文国家以中国为主,法国、英国、德国等国家均有涉足;(5)主要发文机构是陕西科技大学、陕西省耀州窑博物馆、中国科学院、陕西省考古研究所、郑州大学和景德镇陶瓷大学等;(6)中国耀州瓷的研究热点较早以烧制历史与考古研究为主线,较近是以技艺传承与创新、文化交流与传播两大研究主线并存.

    信息科学中国耀州瓷VOSviewer热点与前沿

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