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期刊信息/Journal information
真空
真空

陆国柱

双月刊

1002-0322

zkzk@chinajournal.net.cn

024-24110136

110042

辽宁省沈阳市万柳塘路2号

真空/Journal Vacuum北大核心CSTPCD
查看更多>>本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
正式出版
收录年代

    真空电弧炉及凝壳炉的控制技术进展

    宋青竹鄂东梅王玲玲乔忠路...
    1-9页
    查看更多>>摘要:综述了真空电弧炉和真空凝壳炉的工作原理和国内外发展现状.介绍了真空电弧重熔(VAR)工艺控制技术发展情况,并指出电弧检测与调控对大型真空凝壳炉安全运行的重要意义.虽然,熔速控制实现了熔池糊状轮廓的稳定.但是,电弧运动改变了熔池的热量分布.基于熔速控制的电弧分布状态优化,是制造高品质铸锭的基础和工艺装备的发展方向.根据电弧运动特性,将电弧分布模型划为四类:集中、扩散、偏心和旋转.其中,扩散电弧分布模型对改善熔池轮廓和提升铸锭品质的作用明显.将VAR控制技术分为电弧分布、熔池特性和凝固过程三个组成部分.针对电弧的电磁特性,利用磁场对电弧分布进行检测和调控,将为VAR工艺带来新的技术革新.配有霍尔效应磁场传感器阵列和亥姆霍兹线圈的控制系统已应用在工业生产装备中,验证了控制系统对电弧检测与调控的有效性.

    真空电弧重熔真空凝壳炉熔速控制熔滴控制电弧分布亥姆霍兹线圈

    大型航天器漏率检测系统设计与性能分析

    李宏宇苏东平代明桥孙立志...
    10-16页
    查看更多>>摘要:为满足在轨航天器推进系统密封性能检测需求,本文基于氦质谱检漏法介绍了大型航天器漏率检测系统的组成和设计方案.系统采用组合设计,嵌入式盖板结构,远程集控等方式,提高了航天器漏率检测效率和自动化水平;通过真空、常压氦质谱检漏试验验证了系统的漏率检测性能,真空检漏法最小可检漏率为7.5×10-10Pa·m3/s,常压累积检漏法最小可检漏率为2.0×10-6Pa·m3/s(周期2天);研究了检漏容器环境参数变化规律和微正压条件下的气密性,发现随着容器内温度增加,相对湿度呈降低趋势,容器充入表压1500Pa以上的压缩空气后24h压降小于80Pa,气密性满足航天器检漏测试要求.

    氦质谱检漏检漏容器气密性航天器推进系统

    Zr/ZrVFe多孔吸气材料的表面改性研究

    孙雯君冯欣格宋伊裴晓强...
    17-21页
    查看更多>>摘要:采用磁控溅射技术在Zr/ZrVFe多孔吸气剂表面制备不同厚度的Ni膜,研究了Ni膜对吸气剂吸气性能的影响,利用SEM和EDS技术分析了吸气剂表面形貌及元素组成,通过定容法研究了吸气剂室温吸气性能.结果表明:吸气剂激活过程中,H2O、CO2和CO/N2在350℃以下就已脱附;当激活温度达到350~450℃时,脱附气体只剩H2和CH4,CH4为吸气剂脱附产生的H2与四极质谱计灯丝发生反应所得;制备的Ni膜均匀覆盖在吸气剂表面,不会改变吸气剂的表面形貌;进行Ni膜表面改性后,吸气剂的吸气容量明显增大,且镀膜2h所得吸气剂的平衡压最小,吸附性能最好.

    Zr/ZrVFe多孔吸气材料表面改性Ni膜

    热蒸发技术制备梯度折射率薄膜的研究

    刘祺徐均琪苏俊宏韩刚...
    22-28页
    查看更多>>摘要:采用双源共蒸MgF2和ZnS的方法,通过控制两种材料的沉积速率比,获得了制备梯度折射率薄膜所需要的中间折射率材料.将G|HL|A双层减反膜梯度化为5层,保持总光学厚度不变,制备了折射率沿厚度方向按1.91、1.77、1.64、1.48、1.38(波长532nm)渐变的梯度折射率减反膜.对所有薄膜样品进行了光学和激光损伤特性的测试,结果表明:双源共蒸MgF2和ZnS所得复合膜的折射率,及两种材料的沉积速率比,满足Drude理论导出的关系式;复合膜的折射率符合正常色散,除折射率为1.91的复合膜吸收较大(532nm处消光系数为0.01),其余复合膜都表现出较小的吸收(532nm处消光系数均小于0.002);用100mJ能量激光辐照所有单层膜样品,折射率为1.64的复合膜激光损伤程度最小,表现出比单组分MgF2和ZnS薄膜更高的抗激光损伤能力;将双层减反膜等效为折射率梯度渐变的5层后,减反射带宽从205nm扩展到了380nm,激光损伤阈值从2.0J/cm2提高到了3.7J/cm2,提高了85%.综上可知,采用双源共蒸技术,通过调节两种材料蒸发速率比,制备折射率按一定规律渐变的薄膜是可行的.只要两种材料比例合适,利用共蒸技术可获得抗激光损伤性能高于单组分薄膜的复合膜.梯度折射率减反膜可拥有比双层减反膜更好的光学特性和更高的激光损伤阈值.

    梯度折射率双源共蒸减反膜复合膜激光损伤阈值

    真空电弧源冷却结构对温度场的影响研究

    刘兴龙沈佩王光文岳向吉...
    29-33页
    查看更多>>摘要:真空电弧离子镀技术是工业界使用最为广泛的表面处理技术之一.在电弧离子镀实际应用过程中,所制备涂层的表面大颗粒仍然是困扰高端制造的一大难题,造成这一现象的根本原因是靶材表面局部过热产生的液滴飞溅.减少液滴产生的有效方法有很多,除降低放电功率密度、提高弧斑运动速度等热端控制技术之外,还包括加强靶材的冷却等.本文将新型冷却结构和弧斑运动引入弧源的数值模型,对弧源内部冷却水的流场和靶材表面的温度场进行模拟分析,研究了不同边界条件下弧源温度场的变化规律.本文的研究结果对真空镀膜机设计与工艺开发具有一定的指导作用.

    弧源冷却结构温度场靶面温度

    钽氮化合物电阻薄膜的研究进展

    杨曌付振晓沓世我王鑫豪...
    34-39页
    查看更多>>摘要:钽氮化合物薄膜材料具有电阻温度系数小、化学稳定性高、功率耐受性好和阻值可调范围大等优点,是高性能电阻薄膜的优选材料.本文综述了钽氮化合物薄膜材料的研究进展,从材料的制备工艺参数、后处理方式、微观相结构和元素掺杂等出发,挖掘了获得高性能薄膜电阻的核心影响因素;结合国内外研究现状,对钽氮化合物薄膜电阻进一步发展存在的难点进行了分析.钽氮化合物薄膜已经成为电子功能材料发展的关键之一,通过元素掺杂和后处理改善薄膜质量将成为进一步拓展其应用领域的重要手段.

    电子功能薄膜钽氮化物薄膜电阻物相

    《真空工程设计(上、下册)》出版发行

    沈阳真空杂志社
    39页

    利用PEALD制备PET基Al2O3阻隔膜及其性能研究

    陈兰兰孙小杰尉琳琳任月庆...
    40-44页
    查看更多>>摘要:在低温80℃的沉积条件下,采用等离子体增强原子层沉积(PEALD)技术在柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基底上制备氧化铝(Al2O3)阻隔薄膜.通过X射线光电子能谱、椭圆偏振仪测试分析表明,制备的Al2O3薄膜纯度较高,均匀性好.同时,通过调节沉积循环周期制备了不同厚度的Al2O3薄膜,研究了薄膜厚度对其表面形貌、表面粗糙度、透光率以及水汽透过率的影响.结果表明,沉积循环周期为500cycles时制备的Al2O3薄膜性能最为优异,表面粗糙度为1.52nm,400~1200nm波长范围内平均透光率为90.4%,水汽透过率为3.15×10-3g·m-2·d-1.

    氧化铝阻隔膜等离子体增强原子层沉积(PEALD)

    磁控溅射法制备ITO膜层及其光电性能研究

    张健齐振华李建浩牛夏斌...
    45-50页
    查看更多>>摘要:利用直流磁控溅射法在有机玻璃基底上沉积掺杂氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,在室温条件下,研究了溅射功率、溅射气压、靶基距和氧氩流量比等工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响.结果表明,ITO薄膜的透光率随溅射功率和靶基距的增大而减小,当溅射功率为110W、靶基距为70mm时,ITO薄膜的透光性和导电性较为优良.在近紫外光波段和近红外光波段,ITO薄膜的透光率随溅射气压的增大而减小.当氧氩流量比为4:30时,ITO薄膜在500nm到600nm可见光范围内的透光性和综合性能最好.

    ITO薄膜直流磁控溅射法溅射功率溅射气压光电性能

    《现代离子镀膜技术》一书出版发行

    沈阳真空杂志社
    50页