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電子情報通信学会技術研究報告
电子情报通信学会
電子情報通信学会技術研究報告

电子情报通信学会

0913-5685

電子情報通信学会技術研究報告/Journal 電子情報通信学会技術研究報告
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    [招待講演]放射加熱/冷却を利用した環境発電装置の実装、評価、解析

    鎌倉良成港恭哉藤田悠摩鈴木悠平...
    4页
    查看更多>>摘要:放射加熱/冷却を利用した環境発電IoTセンシングシステムの実装評価,および等価回路モデルを用いた解析結果について報告する.熱電素子(TEG)が発生する微小電圧を間欠電源方式に基づく回路でブーストしセンサノードを動作させたが,その起動条件について使用するTEGの特性と関連つつ考察する.

    フレキシブル熱電発電デバイスのためのZnO/導電性布材料の開発

    川瀬暢大藤原直樹下村勝山川俊貴...
    4页
    查看更多>>摘要:ウェアラブル発電デバイスや自己発電型生体情報センサのようなフレキシブル熱電デバイスの高性能化のため,マイクロ波支援ソルボサーマル合成法により,導電性NiCu布表面にZnOナノロッドを垂直に形成した熱電材料の実現を目指している.マイクロ波を利用することにより,従来の炉による合成に比べて成長時間が大幅に短縮できるとともに,直径10~50nmのZnOナノロッドを高密度かつ垂直に形成することに成功した.さらに,マイクロ波照射時間を長くするにつれて,ナノロッド径が増加し,数密度が減少することがわかった.

    自由電子レーザ照射による周期的微細構造生成

    野平真義星野陽太岩田展幸
    4页
    查看更多>>摘要:自由電子レーザを用いて周期的構造の生成を試みた。SiO_2(300nm)/Si基板にフルバンチで、照射位置を2000、2500nmではそれぞれ50μm移動し、3000、3500nmではそれぞれ10μ移動しレーザを照射した。1マクロパルス照射するごとに照射位置を移動させた。2000、2500nmでは中心部に凸状突起を持つ構造を観察した。この構造の生成において波長は大きく関わっていないと考えている。3000、3500nmでは波状の構造を確認した。この波状の構造は照射位置の移動により生成したものと考えている。バーストモードでの照射では間隔が波長程度の二つ穴構造を観察した。

    反応性スパッタリングによる窒化物誘電体薄膜の堆積とシリコンフォトニクス応用

    Jose A. Piedra Lorenzana土谷塁飛沢健石川靖彦...
    4页
    查看更多>>摘要:SiN_xはSiに比べて熱光学係数が約1桁小さい特長があり、熱的に安定動作する合分波器など、シリコンフォトニクス素子の特性向上に有効である。反応性スパッタリングにより低温(200℃)堆積したSiN_x膜を利用した低損失光導波路を報告するとともに、SiN_xと同等の高い屈折率(約2.0)を有するA1N膜の形成に反応性スパッタリングを応用した結果を述べる。SiN_xは電気光学効果を示さないが、0.1pm/Vオーダーの電気光学係数を有するA1Nを利用することにより、光強度変調器などの光制御デバイスの実現が期待できる。

    Single-electron tunneling through multiple-donor QDs in high-concentration co-doped Si nanoscale transistors

    Taruna Teja JupalliTsutomu KanekoChitra PandyDaniel Moraru...
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    查看更多>>摘要:In co-doped semiconductors, the level of doping and the balance between donors and acceptors can dictate the degree of compensation and implicitly the type of conductivity, potentially allowing the control of the metal-insulator transition. Here, we experimentally analyze the effect of co-doping at high concentrations in nano-channel transistors, with donor and acceptor concentrations estimated to be N_D≈2.0×10~(20) and N_A≈5.3×10~(19) cm~(-3), as well as the importance of low dimensionality, for observing single-electron tunneling (SET) operation (so far at low temperature). The critical role of dimensionality in defining the conditions for SET transport, mediated by one or only a few QDs induced by dopant clusters, is demonstrated by numerical simulations of random dopant distributions.

    物理リザバー計算系のための半導体非線形ダイナミックノードの検討

    葛西誠也齋藤俊介
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    查看更多>>摘要:ニューラルネットを用いた時系列機械学習の枠組みの一つであるリザバー計算は,ネットワーク内部の設計や調整が不要でかつ要素ばらつきが計算性能を高めるという従来技術とは真逆の特徴により,Si CMOSの枠にとらわれない多種多様な材料·デバイスによる実装が可能である.一方で,実用的な観点や理想的な物理系を提供可能な半導体エレクトロニクスによる実装例は現段階において非常に少ない.本研究では半導体技術による物理リザバー計算系の構築をめざし,非線形性を有する半導体トンネルダイオードによる自励発振ノードの構成と結合によるダイナミクス変調について検討を行った.

    電気化学反応を利用した窒化ガリウムのウェットエッチングと機能性材料

    佐藤威友渡久地政周
    4页
    查看更多>>摘要:電気化学反応を利用したウェットエッチング(電気化学エッチング)により,窒化ガリウム(GaN)多孔質構造を形成した.GaN多孔質層の屈折率は開口率により制御可能であり,その光反射率は開口率に依存して低減した.また,GaN多孔質構造と電解液との界面を利用した光電変換効率は,未加工試料と比較して約40%増大し,基礎吸収端の長波長シフトが観測された.母体材料の高い結晶品質を受け継いだGaN多孔質構造のこれらの特徴は,機能性材料として有用である.

    Al_2O_3(0001)およびYSZ(111)基板上でのYbFe_2O_4薄膜の結晶成長

    車井健慎寺地勇博田村怜大岩田展幸...
    6页
    查看更多>>摘要:電子型強誘電体として知られているYbFe_2O_4薄膜をAl_2O_3(0001)基板および,YSZ(111)基板上にパルスレーザー堆積法を用いて作製した.Fe_3O_4バッファ層を挿入し,格子ミスマッチの軽減を行なった.YbFe_2O_4/Fe_3O_4//Al_2O_3(0001)の表面像より,YbFe_2O_4構造的特徴を示す60°の内角をもつファセット面を確認した.φスキャンの結果より,Al_2O_3{0 -1 1 4}の結晶ピークが120°ごとに出現したのに対し,Fe_3O_4{1 1 3}およびYbFe_2O_4{0 -1 1 4}の結晶ピークは60°ごとに出現した.Fe_3O_4{1 1 3}の結晶ピークはAl_2O_3{0 -1 1 4}, YbFe_2O_4{0 -1 1 4}に対して±30°ずれた位置に結晶ピークが出現した.YbFe_2O_4とFe_3O_4の結晶面は本来3回軸の対称性を示すので,双晶が成長していることがわかった.よってc-Al_2O_3基板と薄膜の面内エキタピシャル関係はYbFe_2O_4[-1-20]_h[210]_h[-110]_h/Fe_3O_4[2-1-1]_c[-12-1]_c[-1-12]_//Al_2O_3[-1-20]_h[210]_h[-110]_h, YbFe_2O_4[1-10]_h[120]_h[-2-10]_h/Fe_3O_4[11-2]_c[-211]_c[1-21]_c//Al_2O_3[-1-20]_h[210]_h[-110]_hの4つの成長関係であることがわかった.

    多端子ホール素子によるオーミック金属下半導体の特性評価法

    瓜生和也木内翔太鈴木寿一佐藤拓...
    4页
    查看更多>>摘要:一般に,オーミック金属下半導体の電気的特性は,オーミックコンタクト形成前から変化している.これまでに,オーミック金属下における半導体のシート抵抗測定方法は知られていたが,シートキャリア密度および移動度を評価する手法はなかった.我々は,オーミック金属下半導体のシート抵抗に加え,シートキャリア密度と移動度を評価する方法として,多端子ホール素子を用いた手法を開発した.この手法をAlGaN/GaNヘテロ構造へ適用し,オーミック金属下の特性を明らかにした.

    AlGaN/GaNヘテロ構造のTiAl系オーミック電極の基礎的検討

    秋良芳樹岡田浩吹中茉生
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    查看更多>>摘要:パワーデバイス応用が期待されるGaN系デバイスにおいて、抵抗が小さく損失の少ないオーミック電極の形成は重要な課題である。本研究では、AlGaN/GaNヘテロ構造に対してTiAl系オーミック電極を形成し、チャネル幅依存性や伝送線路モデル(c-TLM)構造や四端子測定、パッド電極を形成した構造の電気的特性を評価からAlGaN/GaNヘテロ構造のTiAl系オーミック電極の電気的特性について検討した。