首页期刊导航|集成电路应用
期刊信息/Journal information
集成电路应用
集成电路应用

月刊

1674-2583

021-64850700-143

200223

上海宜山路810号

集成电路应用/
查看更多>>本杂志是我国电炉行业唯一一份杂志，更名后内容拓展到了工业炉窑、各种燃烧装置及远红外加热。杂志坚持科学性、先进性、导向性和实用型相统一的原则，报道电炉、工业炉及有关工业加热方面的科研成果和新技术、新材料、新设备、新工艺信息。
正式出版
收录年代

    高性能数字信号处理器的集成电路设计与优化

    周凯迪王翠萍李迎侠贾玉凤...
    48-49页
    查看更多>>摘要：阐述高性能数字信号处理器(DSP)的集成电路设计与优化,分析现有的设计流程、核心设计和优化技术,以及前端和后端电路的设计与布局优化方法,以提高DSP的性能和效率,降低功耗和成本.

    集成电路设计数字信号处理器性能优化

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    电子元器件可靠性测试与评估分析

    赵臣龙
    50-51页
    查看更多>>摘要：阐述电子元器件可靠性测试与评估方法,包括介绍电子元器件在极端环境下运行、振动与冲击、寿命、电气性能、质量控制的测试技术,以及电子元器件的寿命、加速寿命、加速退化的试验评估.

    电子元器件可靠性测试与评估寿命试验

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    基于LabVIEW的LED沙盒上位机的设计与实现

    李灿丽
    52-53页
    查看更多>>摘要：阐述基于LabVIEW的LED沙盒上位机的设计与实现,通过串口通信与LED沙盒的控制器进行数据交互,实现LED亮度、颜色和显示模式的控制.通过LabVIEW的图形化编程环境,实现数据的发送、接收、处理和显示功能.

    LabVIEW上位机串口通信控制逻辑数据处理

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    多波束声呐数据处理与三维地图构建的应用

    李海英张国清
    54-55页
    查看更多>>摘要：阐述通过多波束声呐数据处理与三维地图构建的应用,构建出精确且详细的海底地形模型.基于案例分析,探讨信号处理、数据处理速度、自动化智能识别在提升测绘精度和效率方面的应用.

    多波束声呐海底地形测绘三维地图构建数据处理

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    一种基于数字电视Android系统的流媒体播放器设计

    任修齐
    56-57页
    查看更多>>摘要：阐述一种基于数字电视Android系统的流媒体播放器设计,该播放器利用数字电视平台的优势,结合Android系统的灵活性和可扩展性,实现流畅、稳定、高效的流媒体播放体验.通过集成FFmpeg等关键技术,实现对多种流媒体格式的支持.

    数字电视Android系统FFmpeg集成流媒体播放器

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    中国集成电路企业面临的机遇与挑战

    李鸿
    58-59页
    查看更多>>摘要：阐述我国集成电路产业发展现状、市场需求,探讨建设自主可控芯片产业链的策略.提出集成电路企业应加速构筑企业的核心竞争力,加强企业间合作,借势发展,构建完整而健康的产业生态链.

    集成电路产业链自主可控

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    一种动力电池电路报警系统设计

    徐红如
    60-62页
    查看更多>>摘要：阐述针对新能源动力电池热失控报警需求,利用采集到的MEMS压力、温度和电压信息,设计一种电路报警系统.该电路报警系统具有整体功耗低、工作安全性高、报警实时快速,可多场景应用,满足动力电池需求的强安全可靠报警特性.

    电路设计BPS热失控电池报警系统(BMS)汽车功能安全

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    PECVD上下料控制系统的设计

    吕新春钟广超余雪昆熊镇西...
    63-65页
    查看更多>>摘要：阐述自动上下料装置作为PECVD设备的组成部分,是实现生产自动化作业的重要一环.介绍PECVD设备上下料原理及主要构成,设计基于PLC、EtherCat总线及各类传感器构成的自动上下料控制系统.生产实践表明,系统可满足PECVD设备上下料过程的准确性、稳定性和可靠性.

    PECVD自动上下料PLCEtherCat

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    28nm高K金属栅技术平台光阻回刻工艺中提高刻蚀工艺稳定性的方法研究

    吕煜坤王宇威唐在峰
    66-69页
    查看更多>>摘要：阐述在28nm高K金属栅(28HKMG)技术平台中解决NMOS/PMOS区域栅极阻挡层高度差的主要方案,是在金属栅极制造工艺前插入光阻回刻系列工艺流程,使NMOS区域与PMOS区域的栅极高度获得一致.但该方案在实际量产中的主要难点是第二道回刻工艺(Etch Back2,即EB2)不稳定,腔体的刻蚀速率与面内分布随着作业时间的增加会出现明显的趋势变化,导致产品端用于表征刻蚀结果的量测参数"牛角高度"(Spacer1二氧化硅保护层高度与栅极高度之间的高度差)在片内具有较高波动性,易造成缺陷,无法安全生产.为此,详细探讨28HKMG平台EB2刻蚀工艺不稳定的原因,并针对实际量产过程中发生的异常,给出切实可行的解决方案,有利于维护腔体微环境稳定,提高产品质量.

    集成电路制造28nm高K金属栅光阻回刻工艺稳定性

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据

    ATE芯片测试中的成测修调方法分析

    朱刚俊董泽芳马培
    70-71页
    查看更多>>摘要：阐述基于ATE测试中集成电路成测修调的方法.介绍目前芯片封装测试环节常见的成测修调种类,包括多晶硅结构的熔丝修调、齐纳二极管的齐纳修调、EPROM/EEPROM结构的数字修调.

    集成电路芯片成测修调ATE

      原文链接:
    • NETL
    • NSTL
    • 万方数据