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期刊信息/Journal information
集成电路应用
集成电路应用

月刊

1674-2583

021-64850700-143

200223

上海宜山路810号

集成电路应用/
查看更多>>本杂志是我国电炉行业唯一一份杂志，更名后内容拓展到了工业炉窑、各种燃烧装置及远红外加热。杂志坚持科学性、先进性、导向性和实用型相统一的原则，报道电炉、工业炉及有关工业加热方面的科研成果和新技术、新材料、新设备、新工艺信息。
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    集成电路产业中的仿真技术应用

    吴涛
    52-54页
    查看更多>>摘要：阐述电子电路仿真技术在集成电路产业中的应用特点,介绍电子电路设计、集成芯片设计、新型材料研制、器件与电路的兼容分析.从创建电路、确定器件参数、建立电路模型、仿真和优化、验证仿真结果方面,探讨电子电路仿真技术在集成电路产业中的应用策略.

    集成电路仿真技术兼容分析器件参数设计验证

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    High K材料对CMOS图像传感器性能的影响分析

    王文轩
    55-57页
    查看更多>>摘要：阐述BDIT结构表面不同厚度的Ta2O5以及Al2O3材料对传感器光学以及电学性能的影响.实验结果表明,改变Ta2O5厚度对传感器QE以及高温性能影响较大,改变Al2O3厚度主要会影响高温性能.通过调整Ta2O5以及Al2O3厚度,可以改善图像传感器高温性能,同时可以改变传感器的QE特性.

    集成电路背照式图像传感器背面深沟槽隔离暗电流

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    蚀刻通孔的阻值影响因素以及调整方法分析

    苏良得阚琎
    58-61页
    查看更多>>摘要：阐述通孔的尺寸、形貌以及底部的特性是决定通孔阻值的关键因素,不同的蚀刻步骤需要配合不同的蚀刻气体,功率以及蚀刻时间.为此,从通孔蚀刻不同的步骤对尺寸、形貌,底部的特性的影响着手,分析影响通孔阻值的关键因素,找出通孔蚀刻工艺的管控方案,扩大工艺窗口.

    集成电路制造通孔蚀刻阻值NISIloss工艺窗口

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    光阻回刻工艺缺陷与改善方法研究

    阚琎苏良得
    62-65页
    查看更多>>摘要：阐述在金属栅极(例如AL)半导体芯片制造工艺中通常需要引入一段特有流程用来去除多晶硅(Poly)并进行金属再填充.光阻回刻工艺作为该流程中的关键步骤,主要目的是去除Poly顶端的硬质掩膜,便于后道工艺对Poly进行刻蚀.因为NMOS和PMOS的硬质掩膜存在高度差异,以及光阻在不同图形密度区域厚度不同,导致工艺窗口紧张,实际生产维护困难,容易出现包括多晶硅残留在内的多种缺陷,严重影响产品最终良率.为此,通过对缺陷进行分类,探究形成机理,提出对应在线监控方式,能够降低缺陷发生率,并尝试对工艺条件进行优化,提升整体工艺窗口.

    集成电路制造金属栅极光阻回刻工艺缺陷分析工艺窗口改善

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    曝光单元内线宽均匀度优化对产品工艺窗口的提升分析

    吕煜坤余寅生卞玉洋
    66-69页
    查看更多>>摘要：阐述随着半导体工艺节点的发展,关键光刻层的最小线宽变得越来越小,由此导致图形边缘位置误差容许范围也越来越小.其中曝光单元内线宽均匀度提升受光罩制作、曝光行为等多方面影响很难控制,导致很多产品在良率验证时出现在Field固定位置发生失效的问题.为此,探讨在28nm HKC+工艺的产品上使用不同的补偿方式优化曝光单元内线宽均匀度,旨在寻找快速高效的补偿方式降低Intra-field CDU,提升图形工艺的工艺窗口.

    集成电路制造关键尺寸曝光单元线宽均匀度工艺窗口

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    光刻机光源系统中的波长控制与稳定性改进

    董佳余洋
    70-71页
    查看更多>>摘要：阐述为改进机台光源系统中的波长控制与稳定性,通过完善现有光源系统,优化波长调节和稳定技术,并进行实验验证,探讨可行的解决方案.该方案包括理论分析、光学设计和波长调节实验.

    集成电路光刻机台光源系统波长控制

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    塑封器件使用风险与应对措施分析

    李泱王宇王思思贾博涛...
    72-73页
    查看更多>>摘要：阐述塑封器件使用中的风险,包括温度适应性、潮气入侵、塑封器件分层、高可靠领域使用商用塑封器件.从器件选用和保证、可靠性评估保证措施方面,提出塑封器件使用的应对措施.

    集成电路塑封器件可靠性评估

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    宽负载范围恒定功率的无线电能传输系统设计

    薛楚焓
    74-75页
    查看更多>>摘要：阐述宇称时间对称在电子电路中的对称条件,介绍具体的电气参数及负电阻的构造方法,并对控制电路部分进行设计,最后通过Simulink搭建仿真平台,验证理论推导的有效性.

    宇称时间对称移相全桥控制无线电能传输

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    半导体物理课程的OBE混合式教学实践

    李严殷树娟李涵邓伟...
    76-77页
    查看更多>>摘要：阐述基于OBE的半导体物理课程线上线下混合教学设计,并给出教学设计案例,以此提高学生的学习兴趣,加强学生对于知识的掌握深度,提升教学效果.

    半导体物理OBE混合教学实践教学设计

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    微电子工程中薄膜工艺教学设计与实践

    杨艳罗乐巫丛平柏淑红...
    78-80页
    查看更多>>摘要：阐述针对微电子专业学生对薄膜课程理论和实践的学习要求,定制集电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射三种镀膜方法于一体的镀膜设备.通过创新的教学实践,使学生获得真空设备、薄膜设备的安装、调试、故障分析与排除的基本技能,掌握薄膜制备的工艺设计及真空镀膜设备的使用.

    薄膜工艺实践教学工程应用课程体系

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