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期刊信息/Journal information
电子工业专用设备
电子工业专用设备

赵璋

月刊

1004-4507

faith＿epe@sohu.net

010-64655251;64674511

100029

北京市朝阳区安贞里二区1号楼金瓯大厦418室

电子工业专用设备/Journal Equipment for Electronic Products Manufacturing
查看更多>>本刊为国内外公开发行的技术性刊物，以报道半导体设备及半导体产业链技术与材料为主要方向，以“公布新的科技成就，传播科技信息，交流学术思想，促进科技成果的商品化、产业化，为建设社会主义精神文明与物质文明服务”为本刊的为刊方针。发挥传媒优势，全方位服务于微电子行业的广大科技工作者。
正式出版
收录年代

    福建省碳化硅衬底专利技术现状与发展建议

    许鲜
    1-5页
    查看更多>>摘要：以碳化硅、氮化镓为代表的宽禁带半导体材料,已经成为国际半导体研究和产业化的热点.以碳化硅衬底技术专利活动情况为研究目标,从专利申请趋势、专利地域分布、主要申请人和技术领域分布等角度进行对比分析,梳理专利布局优势和存在的问题,提出福建省碳化硅衬底技术专利布局优化和质量提升的对策建议,全面助力福建省碳化硅衬底技术优化升级.

    碳化硅衬底宽禁带半导体第三代半导体专利分析专利布局

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    基于白名单的工控管理系统

    杜银学郑栋娥王金庚马永军...
    6-9,18页
    查看更多>>摘要：工业控制系统是关乎国计民生的关键基础设施,其安全保障是国家安全战略.近年来,随着"工业 4.0"、"两化融合"等国家战略相继提出,传统的工业控制系统信息安全成为企业及国家亟待解决的问题.基于白名单安全防护模式,应用了一种基于白名单工控管理系统,可以实现软件权限管理、关键参数自动备份等功能.软件权限管理通过白名单模式实现,用于限制操作人员的软件操作权限;关键参数备份通过桌面管理系统实现,实现关键参数丢失后可以自动恢复,防止生产设备停机.白名单工控管理系统能够增强工业控制系统的鲁棒性,对保证工业控制系统中数据的完整性和安全性有着重要意义和作用.

    工业4.0白名单管理工业控制系统两化融合

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    直线式共晶固晶机的设计与实现

    郑嘉瑞
    10-14页
    查看更多>>摘要：针对共晶固晶机进行研究分析,提出了以直线式焊头机构为核心的固晶机构设计,重点分析了主要机构以及时序分析;通过实际结果验证了机构设计的有效性,实现了直线式共晶固晶机的设计要求.

    半导体共晶固晶机芯片

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    外延生长设备EFEM系统设计

    陈国钦吴限周立平巴赛...
    15-18页
    查看更多>>摘要：阐述了应用于外延生长设备的EFEM系统,通过采用顶升机构、机械手和校准器等部件,结合机器视觉辅助判断方法,设计了一种外延生长设备的EFEM系统,该系统有效地提高了晶圆洁净度,提升了设备的自动化水平;并在相关机型进行应用和测试,能够可靠高效地运行.

    外延生长机械手机器视觉半导体设备前端模块

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    适用于器件制程的立式扩散/氧化设备设计与验证

    陈庆广赵瓛黄升曾裕民...
    19-23页
    查看更多>>摘要：针对半导体器件的国产化制造及工艺制程需求,设计了一款适用于 200 mm(8 英寸)晶圆的立式扩散/氧化设备.介绍了设备的功能特点和几个关键部分的设计要点,并对炉体系统进行了详细论述;设备设计完成后上线进行了流片试验,根据工艺验证结果,该设备满足产品工艺要求,膜厚均匀性均优于±2%.

    立式扩散旋转舟架传片系统

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    直流磁控溅射系统研究及其维护

    吴海张文朋王露寒程壹涛...
    24-29页
    查看更多>>摘要：通过介绍磁控溅射镀膜系统的原理,分析了磁控溅射系统在溅射镀膜的过程中遇到的沉积速率、沉积均匀性、常见故障等方面的问题,对沉积速率和沉积均匀性的影响因素进行了具体地研究;同时描述了设备在使用过程中经常遇到的一些故障,对这些故障发生的原因进行了详细地分析,根据原因分析给出了故障的具体解决方法;最后,对磁控溅射系统在日常使用过程中的保养和维护方面提出了一些建议.注重日常的保养和维护可大大降低设备的故障率.

    磁控溅射靶沉积速率沉积均匀性设备维护

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    碳化硅长晶工艺中压力控制系统设计

    王宏杰靳丽岩李林高王飞龙...
    30-33页
    查看更多>>摘要：通过对碳化硅晶体生长设备和工艺研究,提出压力稳定性对碳化硅晶体生长质量的重要性,经过对不同压力下控制方式的分析比较,提出了一种稳定的压力控制系统方法,并经过实践验证满足碳化硅晶体生长的工艺稳定性要求.

    碳化硅晶体生长压力控制

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    靶通道选择器研究与优化设计

    鲁彤袁祖浩李明王佳方...
    34-37页
    查看更多>>摘要：针对目前对多靶磁控溅射设备功率切换的高要求,设计了一套可以有效抗电磁干扰的靶通道选择器.该新型靶通道选用钨触点高压陶瓷继电器实现通道的切换,通过I/O信号控制通道的切换,规避串口通讯抗电磁干扰能力弱的问题,并成功应用于磁控溅射镀膜机上,经过用户的长期使用,证明了该设备的稳定性和可靠性,这一突破实现了靶通道选择器的自主可控.

    磁控溅射直流电源靶通道选择器功率切换

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    国产碳化硅离子注入机的设计开发

    袁卫华李进罗才旺许波涛...
    38-42页
    查看更多>>摘要：为进一步增加SiC离子注入技术的自主可控能力和降低SiC器件的成本,SiC离子注入机的国产替代迫在眉睫.主要介绍国产SiC离子注入机的研制过程和其中的三大关键技术,目前国产SiC离子注入机核心技术攻关已取得突破并得到产线应用,器件良品率、性能等指标与国外进口机台的水平相当,能够满足SiC器件的生产要求.

    碳化硅高能离子注入机金属离子源高温注入

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    柔性透明导电膜用UV胶的配方探讨

    徐丹丹秦苏琼陶军瞿然...
    43-47,57页
    查看更多>>摘要：应用于柔性透明导电膜用UV胶压印技术,对柔性透明导电膜产品性能有重要作用,特别是胶的黏度、硬度、附着力、光学性能、耐水性、伸长率等对实现高精度印刷效果、导电膜柔韧性、透光率和稳定性都有重要的意义.根据柔性透明导电膜用UV胶实用性能的要求,讨论了柔性透明导电膜用UV胶的配方成份.

    柔性透明导电膜紫外光固化胶(UV胶)压印

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